현미경 고배율 교정용 인증표준물질 KRC-HMC-100
현미경 고배율 교정용 인증표준물질 KRC-HMC-100
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KRC-HMC-100 개요
- 고배율 교정용 인증표준물질은 원자힘현미경(Atomic Force Microscope: AFM) 및 주사 전자현미경(Scanning Electron Microscope: SEM)으로 측정된 값과 인증된 실제 값의 차이를 보상하여 나노 단위의 범위에서 AFM 과 SEM 의 배율 교정하기 위해 만들어진 표준 물질이다. KRC-HMC-100은 표준물질에 대한 측정값과 인증값 사이의 선형 회귀식 으로부터 구한 배율 보정계수 및 오프셋 보정계수를 이용하여 측정 대상인 나노구조체의 절대 크기를 얻을 수 있다.
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KRC-HMC-100 주요 사양
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항 목 세부 사양 패턴 선폭 20 nm ~ 80 nm의 5개의 인증 선폭 패턴 피치 100 nm ~ 900 nm의 5개 인증 피치 패턴 단차 70 nm (인증되지 않음) 패턴 길이 4.0 mm (인증 영역 : 중앙 3.0 mm ) 표면거칠기(RG) 0.5 nm 이하 패턴 결함율 2% 이하 ( 3000 um 인증 영역 중 60 um 이하) 소급성 TEM 측정 실리콘 격자 상수 기준 인증 - KOLAS 인정
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KRC-HMC-100에 의한 현미경 교정 방법
- AFM 오프셋 교정
- AFM 배율 교정
- SEM 배율 교정
- 나노패턴 구조
- 원형 쿠폰형 시편
- 웨이퍼형 시편
KRC-HMC-100
KRC-HMC-100P [CC-X]
KRC-HMC-100P [W-X]